日立高新磁控濺射器MC1000
日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電,能夠大限度地減輕對(duì)樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
?日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的大樣品直徑:60 mm
?日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的大樣品高度:20 mm
特點(diǎn):
?采用LCD觸摸屏,可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
?可處理較厚或較大的樣品(選配件)
?記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件
規(guī)格: